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半导体工艺流程运用案例

很多半导体及电子产品加工和操作过程皆需求严格控制的枯燥情况。

很多半导体及电子产品加工和操作过程皆需求严格控制的枯燥情况。氛围湿度过高会致使电路接点侵蚀、芯片电路外面凝聚水份和光刻胶粘连欠妥,致使半导体封装历程中泛起操纵毛病。因而,我们能够运用转轮除湿手艺,以便保持枯燥工作间和无尘室内的恰当事情情况。

湿度掌握可防止:

  • 电路接点侵蚀
  • 芯片电路外面凝聚水份
  • 装备老化
  • 光刻胶粘连欠妥

因而,在以下场所必需停止湿度掌握:

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封装区

在半导体和集成电路的生产过程中,湿度过大会对焊接工艺形成晦气影响,使不良品增加。刻蚀历程中,人们会运用一种叫做光刻胶的光敏高分子混合液掩盖电路引线。具有吸湿性的光刻胶会吸取水份,以致微电路引线被毛病割断或连通,致使电路毛病。

晶圆制造区

晶圆加工历程中,旋涂时机将显影剂放射在晶圆外面,使晶圆外面的溶剂敏捷蒸发,以到达为晶圆外面降温的结果。同时,这也会致使氛围中的水蒸汽在晶圆外面凝聚成水滴。晶圆外面湿度过大会致使显影剂的化学特性发作改动。光刻胶一样也会吸取水份,致使高分子聚合物身分收缩。经由过程掌握相对湿度,便可包管晶圆表面温度不会低于四周氛围露点温度,从而防备毛病和破坏。

光刻间

光刻间过于湿润会致使二氧化硅吸取水份、光刻胶粘连欠妥,形成晶圆在应力感化下发生断裂和外面缺点。

加速真空泵老化

若是湿度程度过高,低温泵等真空设备会果氛围中存在大量水蒸汽而泛起转速低落的状况。相对湿度低落后,批处理速度便能够获得提拔,从而增进消费效力的提拔。

珍爱内涵装备

水蒸汽或水份凝聚在高温的内涵装备外面,会使装备部件遭到侵蚀,致使运转毛病并低落处置惩罚速度。

除能够实现幻想的氛围前提,蒙特还可供应用于消弭废气中挥发性有机化合物(VOC)的 Zeol VOC 加排系列产品。半导体加工历程中排挤的废气中含有 VOC。它对人体康健和情况有害,因而有关部门要求削减这类物资的排放量。沸石转轮稀释装备可起首将 VOC 停止高效稀释,从而大大低落加排本钱。

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关于每分每秒皆在寻求消费进度的半导体产业来讲,转轮稀释体系的最大上风在于其具有高度可靠性,可在压力颠簸最低的状况下稳固排放废气,大大节约运营本钱。受特体系可将包含低浓度 VOC 的大量废气紧缩成低浓度的液体,再利用氧化剂停止经济高效的熄灭去除。体系压降较小,有助于排气扇节约能源本钱。

蒙特沸石转轮稀释装备体系在 VOC 加排方面处于手艺抢先职位。现在安装该体系的包孕一些天下知名企业,现已有200多套体系在为我们的客户供应服务。

蒙特是研讨 VOC 疏水沸石吸取手艺的先驱者。受特 VOC 加排体系可实现 95% 以上的 VOC 熄灭去除率(DRE),而其燃料用度取仅运用氧化剂比拟可低落 30-50%。

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